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株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

小型フォトリソ装置 ELSマスクアライナ

小型フォトリソ装置

ELSマスクアライナ

Siウェーハ、サファイヤ、ガラス角基板、GaAs、水晶、パワーデバイス(SiC、GaN)を材料とした各種分野で広く使われているELS社製装置。シンプルな装置設計で、各種プロセスに対応。搬入・立ち上げやトラブル発生時には、SCREEN SPE サービス全国サービスネットワークで対応。

特長
  • MEMS、LED、化合物半導体、パワーデバイスなどのさまざまな基板に対応した露光モード(Vacuum contact、Hard contact、Soft contact、Proximity Gap)を準備。
  • 露光時に、アライメントを微調整しながら処理を行うManualモードと、繰り返し自動で処理を行うAutoモードで、研究者からオペレーターまで、用途に応じての使い分けが可能。
仕様
モデル ELS106SA ELS108SA ELS112SA
マスクサイズ □5 × 5 inch □9 × 9 inch □14 × 14 inch
ワークサイズ φ3、φ4 φ6、φ8 φ12
露光エリア 150 × 150 mm 200 × 200 mm 300 × 300 mm
ランプ出力 250 W Hg Arc lamp 660~920 W Hg Arc lamp 660~920 W Hg Arc lamp
照度 ≧16 mW/cm2 ≧25 mW/cm2 ≧15 mW/cm2
電源 220V 1φ 30 A 50/60 Hz 220V 1φ 40 A 50/60 Hz 220V 1φ 40 A 50/60 Hz
寸法 900 mm(幅)× 1,040 mm(奥)× 1,650 mm(高) 1,660 mm(幅)× 1,200 mm(奥)× 1,800 mm(高) 1,655 mm(幅)× 1,165 mm(奥)× 2,215 mm(高)

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