SCREEN

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

活用事例Case

ベアリングレスポンプの特長

メッキ工程

無脈動かつ高い制御性能を持ったポンプシステムなので、非常に安定したメッキ液供給ができます。
これにより、高いプロセス制御性能で厚均一性の高いメッキが実現します。次工程のCMP研磨コストの抑制にも貢献します。

CMP工程

主にスラリー送液用として使用されます。ダイヤフラムポンプやベローズポンプに比べ、スラリーへの“せん断力”が低いため、スラリーの凝集を抑えることができます。これにより、CMPでの欠陥で最も重大な原因であるマイクロスクラッチを最大80%削減できます。

洗浄工程

洗浄プロセスで最も注意すべきパーティクルが、通常ポンプシステムに比較して、1/10~1/50に削減できます。また、洗浄プロセスでの均一な処理で求められる安定した送液が、高いシステム制御性能により実現します。

主な使用用途

半導体

  • 超純水製造装置の送液
  • バッチ洗浄装置の循環
  • デベロッパ(現像液)の循環
  • 液浸露光装置の純水昇圧
  • 半導体ウェットプロセス

レンズ等の光学産業

  • インク及びペンキ産業
  • 産業用研磨
  • 医療機器
  • EL薬品/ファインケミカル/製造

その他

  • 化学薬品の製造(送液・混合)
  • 洗浄液の製造(送液)
  • 感光レジストの製造(送液)
  • 医薬品の送液
  • 食品及び飲料の送液
  • 燃料電池の材料送液
  • ナノ流体の循環・送液
  • 電子インクの送液

メールでのお問い合わせ