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小型フォトリソ装置 ホットプレート/クールプレート

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小型フォトリソ装置

ホットプレート/クールプレート

多くのフォトリソプロセスでは、ホットプレート性能が重要なファクター。特に、高い膜厚均一性・線幅均一性が要求される先端プロセスや、温度依存性が高い特殊材料では、ホットプレート性能の違いで、大きな差が出ます。

自動装置で採用されているさまざまな技術を採用。ホットプレート単体で高いプロセス性能を実現。

ピンアップ機構により、正確な処理時間管理ができ、高い均一性を確保。また、ウエハー投入・抜き取り作業もスムーズ。

特長
  • 処理時間をタイマー制御し、ウエハー間にバラつきの無い安定したプロセスを実現。
  • 評価環境に合わせ、幅広いウエハーサイズを対応。
  • 複数のプロキシミティボールで、すべてのウエハーサイズに対し均一なギャップを確保。
  • 8インチには横滑り防止のためウエハーガイドを搭載。
仕様(ホットプレート)
ワークサイズ 3φ~8φ
温度範囲 常温~350℃
温度分布 R≦0.3℃ ※ 表面温度で110℃(安定時)、13ポイントでの実力値
ホットプレート材質 アルミニウム(A5052) ・ 硬質アルマイト処理
リフトピン駆動 上・下段の2段 タイマー制御
プロキシミティ 6カ所
ヒーター マイカヒーター AC100V 600W
ホットプレート形状 丸型Φ216mm
寸法 300mm(幅) × 350mm(奥) × 300mm(高)
仕様(クールプレート)
ワークサイズ 3φ~8φ
クールプレート材質 アルミニウム鋳物(AC4C)・カニゼンメッキ処理
リフトピン駆動 上・下段の2段 タイマー制御
プロキシミティ 6カ所
冷却方式 用力により空冷、水冷のいずれかを選択
クールプレート形状 丸型Φ220mm
寸法 300mm(幅) × 350mm(奥) × 300mm(高)
装置の組み合わせで、評価エリアの機能と性能をアップ

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※ 膜厚測定装置は、SCREENセミコンダクターソリューションズの取扱製品です。

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